Оборудование плазменной очистки

Добро пожаловать отправлять электронное письмо для уточнения информации о связанной аппаратуре:

shaobo@sfi-crf.com

Реактивно-ионная плазменная система обработки струйного типа AP CRF-APO-DP1020-A

Название

Реактивно-ионная плазменная система обработки струйного типа AP

Модель (Модель)

CRF-APO-DP1020-A

Питание

220В/переменный ток, 50/60 Гц

Мощность (Мощность)

1000 Вт/25 кГц

Высота обработки

5-15 мм

Ширина обработки

20-80 мм (опция)

Внутренний режим управления

Аналоговый контроль

Рабочее газо (Газ)

Сжатый воздух (0,4 МПа)

Особенности продукта: Доступно несколько типов сопел, используемых в различных ситуациях, для удовлетворения различных требований разных продуктов и условий обработки;

Устройство небольшого размера, легко переносится и перемещается, экономя место для клиентов;

Может быть установлен последовательно в производственную линию оборудования клиента, чтобы снизить затраты клиента;

Долгий срок службы, низкие затраты на техническое обслуживание и ремонт, что упрощает контроль затрат клиента;

Область применения: главным образом используется для предварительной обработки печати, нанесения покрытий и дозатора для мобильных телефонов в электронной промышленности, поверхностной обработки экранов мобильных телефонов; очистки поверхности аэрокосмических электрических разъемов в оборонной промышленности; предварительной обработки трафаретной печати и термопередачи в обычных отраслях промышленности и т.д.