• Лабораторная малая вакуумная трубчатая печь 1200 1400 1700 градусов для химического парофазного осаждения (CVD), машина для производства алмазов
  • Лабораторная малая вакуумная трубчатая печь 1200 1400 1700 градусов для химического парофазного осаждения (CVD), машина для производства алмазов
  • Лабораторная малая вакуумная трубчатая печь 1200 1400 1700 градусов для химического парофазного осаждения (CVD), машина для производства алмазов
  • Лабораторная малая вакуумная трубчатая печь 1200 1400 1700 градусов для химического парофазного осаждения (CVD), машина для производства алмазов

Лабораторная малая вакуумная трубчатая печь 1200 1400 1700 градусов для химического парофазного осаждения (CVD), машина для производства алмазов

Договороспособный
1 (Мин.заказ)
  • T/T Кредитная карта