Vacuum magnetron sputtering coating machine

Model

CK-900

CK-1000

CK-1250

CK-1400

CK-1600

Size of vacuum chamber

Φ 900×H

1100Mm

Φ 1000×H1200mm

Φ 1250×H

1350mm

Φ 1400×H

1600mm

Φ 1600×H

1800mm

Power Supply Type

Pulse Bias Power Supply, Direct Current magnetron power Supply, Medium

 Frequency Magnetron Power Supply 

Structure of Vacuum Chamber 

Vertical Single/Double Door, Back Vacuum Acquisition System 

Material of Vacuum Chamber 

Superior Stainless Steel Chamber 

Ultimate Vacuum 

8.0×10-4Pa

Pump-out Time

From air to 8.0×10-3Pa≤20min(no-load) 

Vacuum Acquisition System 

Diffusion pump or molecular pump+Roots pump+Mechanical pump+Holding 

pump (The specification can be selected according customer’s demand) 

Coating Style 

magnetron sputtering coating 

Kinds of Film 

compound film, metal film, multilayer film, semi-conductor film etc

The Style of Magnetron target 

Flat magnetron target, cylindrical magnetron target, twin magnetron

 dual target .

Power rate and target number

Selected according to demanders’requirements and different techniques 

Evaporation Power 

20KW/set

20KW/set

30KW/set

40KW/set

50KW/set

Rotating Stand 

and Rotating Style 

Planetary autorotation and frequency conversion speed regulation 

(controlled and adjustable) 

Process Gas 

Three or four process gas flow control and display system,

select automatic filling system 

Cooling System 

Water-cooling circulatory system,cooling water tower or industrial 

cooling water machine is also needed. (which are supplied by demander) 

Control mode 

Manual operation modes + PLC touch screen 

Total power

35KW

40KW

50KW

65KW

80KW

Alarm and Protection 

Abnormal conditions like water failure or over-current or over-voltage disconnection.It can carries out protective measurements and has the

 function of interlock. 

Cover Area 

W2.5m×

L3.5m

W3m×L4m

W4m×

L5m

W4.5m×

L6m

W5m×

L7m

Other Technical Parameters 

Water pressure≥0.2MPa, water temperature≤25, 

gas pressure0.5-0.8MPa 

Remark

Designed flexible and select the appropriate equipment according to 

demanders’requirements .

 (The range of vacuum chamber Φ 0.5-3m,H: 0.5-3m).